发明名称 |
喷墨墨滴之定位方法及系统 |
摘要 |
本发明揭示一种喷墨墨滴之定位方法与设备。一第一方法包括决定一墨滴在一基材上之预期沉积位置,使用一喷墨列印系统将该墨滴沉积在基材上,比较该沉积位置与该预期位置,决定该沉积位置及该预期位置间之一差值,及藉由调整一喷墨列印系统之一参数补偿该沉积位置与该预期位置间之该差值。本发明亦提供各种其他态样。 |
申请公布号 |
TWI324558 |
申请公布日期 |
2010.05.11 |
申请号 |
TW095135873 |
申请日期 |
2006.09.27 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
夏蒙巴萨姆;佐兹威克绢兹;米洛尤格内;上泉元;栗田真一;怀特约翰M |
分类号 |
B41J2/11;B41J2/07;B41J2/195;B41J2/01 |
主分类号 |
B41J2/11 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
主权项 |
一种喷墨列印之方法,其包含:成像一基材,以侦测墨水之一预期沉积位置和一实际沉积位置间之一差值;侦测一喷墨列印系统之列印参数中的变化;基于该差值及该列印参数中之侦测变化,计算一校正因子;基于该校正因子,调整该喷墨列印系统之至少一列印参数;及在调整该至少一列印参数后,使用该喷墨列印系统沉积一墨滴。 |
地址 |
美国 |