场发射元件及场发射装置之制造方法

摘要

本发明系有关于一种场发射元件之制造方法，其步骤包括：首先，提供一基板，其表面具有一图案化之闸极层。然后，于此基板表面形成一图案化之光阻层，此光阻层系形成一开口。接着，于此光阻层之开口内依序形成一阴极层及一场发射层。最后，移除光阻层。而可得到本发明之场发射元件。本发明更包括使用此场发射元件之场发射装置之制造方法。本发明系有效地提高场发射元件结构精确度、电子发射源精确度并提高显示器的解析度。

主权项

一种场发射元件之制造方法，其步骤包括：提供一基板，其表面具有一图案化之闸极层；于该基板表面形成一图案化之光阻层，该光阻层系形成一开口；于该光阻层之该开口内依序形成一阴极层及一场发射层；以及移除该光阻层；其中，于该光阻层之该开口内系利用旋转涂布的方式形成该阴极层，以及于该光阻层之该开口内形成该阴极层后，系利用毛细现象将一亲水性之电子发射源溶液填满于该阴极层上。