| 摘要 |
Устройство ионной имплантации, содержащее вакуумную камеру с установленным в ней источником ионов Пенинга с системой питания анода и мишени, систему формирования и извлечения пучка ионов, высоковольтный управляющий выпрямитель, электрод-коллектор электронов, высоковольтный электрод, являющийся держателем образцов, отличающееся тем, что для уменьшения нейтрализующего воздействия электронов вторичной эмиссии на пучок ионов, направленных на упрочняемую поверхность детали, устройство снабжено электродом-коллектором электронов, повышающим подведенную энергию при стационарном режиме ионной имплантации. |
