蚀刻掩模特征临界尺寸的减小

摘要

本发明提供了一种用于在蚀刻层上具有蚀刻掩模的蚀刻叠层中的蚀刻层内形成特征的方法，其中该蚀刻掩模具有带有侧壁的蚀刻掩模特征，其中该蚀刻掩模特征具有第一临界尺寸。执行循环临界尺寸减小以形成具有第二临界尺寸的沉积层特征，该第二临界尺寸小于该第一临界尺寸。各个周期包括沉积阶段，用于在蚀刻掩模特征的包括垂直侧壁的暴露表面上沉积一沉积层，以及蚀刻阶段，用于回蚀刻该沉积层，在该垂直侧壁上留下选择性沉积。在该蚀刻层内蚀刻形成特征，其中该蚀刻层特征具有第三临界尺寸，该第三临界尺寸小于该第一临界尺寸。

主权项

1. 一种用于在蚀刻层上具有蚀刻掩模的蚀刻叠层中的蚀刻层内形成特征的方法，其中所述蚀刻掩模是光敏抗蚀剂掩模并且具有带有侧壁的蚀刻掩模特征，其中所述蚀刻掩模特征具有第一临界尺寸，所述方法包括：执行周期性临界尺寸减小以形成具有第二临界尺寸的沉积层特征，所述第二临界尺寸小于所述第一临界尺寸，其中各个周期包括：沉积阶段，用于在所述蚀刻掩模特征的包括垂直侧壁的暴露表面上沉积一沉积层；以及蚀刻阶段，用于回蚀刻所述沉积层，在所述垂直侧壁上留下选择性沉积；以及在所述蚀刻层内蚀刻形成特征，其中所述蚀刻层特征具有不大于140nm的第三临界尺寸，所述第三临界尺寸小于所述第一临界尺寸。