发明名称 |
一种背栅ZnO多纳米线沟道场效应晶体管的制作方法 |
摘要 |
本发明涉及化合物半导体材料、器件技术领域的一种背栅ZnO多纳米线沟道场效应晶体管的制作方法。为了解决现有ZnO纳米线场效应晶体管工作电流小、与实际应用有较大差距的问题,本发明提供一种背栅ZnO多纳米线沟道场效应晶体管的制作方法,其步骤包括介质生长、背栅电极制作、底层源漏电极制作、使用交流双向介电电泳技术初步固定ZnO纳米线、使用基于AFM的纳米操控技术精确操控ZnO纳米线、顶层源漏电极制作。本发明将多根ZnO纳米线作为并联沟道并悬浮于空中,能够大幅度提高器件的电流、跨导、截止频率等器件性能以及紫外、气体、化学传感性能。 |
申请公布号 |
CN101540287A |
申请公布日期 |
2009.09.23 |
申请号 |
CN200910301768.1 |
申请日期 |
2009.04.23 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
徐静波;付晓君;张海英 |
分类号 |
H01L21/336(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/336(2006.01)I |
代理机构 |
北京市德权律师事务所 |
代理人 |
王建国 |
主权项 |
1.一种背栅ZnO多纳米线沟道场效应晶体管的制作方法,其制作方法步骤如下:(1)在衬底上表面生长介质;(2)在衬底背面制作背栅电极;(3)在介质上表面制作底层源漏电极;(4)对ZnO纳米线进行初步定位;(5)通过纳米操控技术将ZnO纳米线放置在底层源漏电极上;(6)在底层源漏电极上制作顶层源漏电极。 |
地址 |
100029北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子所 |