| 主权项 |
1.一种蒸镀装置，是通过在腔室内以卷轴到卷轴的方式使片状的基板移动，从而在所述基板上连续形成蒸镀膜的蒸镀装置，其特征在于，具有：使蒸镀原料蒸发的蒸发源；输送部，其包括卷绕保持所述基板的第1及第2卷轴和引导所述基板的引导部，并且，所述第1及第2卷轴的一方导出所述基板，所述引导部对导出的基板进行引导，且所述第1及第2卷轴的另一方收卷所述基板，由此按照使所述基板通过所述蒸发了的蒸镀原料到达的能够蒸镀的区域的方式来输送所述基板，遮蔽部，其配置在所述能够蒸镀的区域，形成来自所述蒸发源的蒸镀原料不能到达的遮蔽区域，所述引导部在所述能够蒸镀的区域内包括第1引导部件和第2引导部件，其中，第1引导部件是按照使所述基板的被所述蒸镀原料照射的面向所述蒸发源凸出的方式对所述基板进行引导的部件；第2引导部件是在所述基板的输送路径中，被配置在比所述第1引导部件更靠近所述第2卷轴侧的位置处，按照使所述基板的被所述蒸镀原料照射的面向所述蒸发源凸出的方式对所述基板进行引导的部件，所述遮蔽部具有分别配置在所述第1及第2引导部件与所述蒸发源之间的第1及第2遮蔽部件，所述第1引导部件，在所述基板的输送路径中，形成第1蒸镀区域和第2蒸镀区域，所述第1蒸镀区域位于比所述第1遮蔽部件更靠近所述第1卷轴侧的位置处，所述第2蒸镀区域位于比所述第1遮蔽部件更靠近所述第2卷轴侧的位置处，所述第2引导部件，在所述基板的输送路径中，形成第3蒸镀区域和第4蒸镀区域，所述第3蒸镀区域位于比所述第2遮蔽部件更靠近所述第1卷轴侧的位置处，所述第4蒸镀区域位于比所述第1遮蔽部件更靠近所述第2卷轴侧的位置处，所述第1到第4蒸镀区域包括按照使所述基板的被所述蒸镀原料照射的面成为平面的方式对所述基板进行输送的平面输送区域，在除了所述遮蔽区域以外的所述能够蒸镀的区域中，按照使所述蒸镀原料不从所述基板的法线方向入射到所述基板的方式相对于所述蒸发源配置所述输送部。 |
