发明名称 |
制造显示基板的方法 |
摘要 |
一种制造显示基板的方法,此方法应用于制造半穿透反射式液晶显示器,方法步骤至少包括:形成有源元件与电容结构于基板上。形成平坦层于有源元件与电容结构上方。使用具有多种透光区的掩膜对平坦层进行光刻蚀刻程序,以同时形成不同的结构特征于平坦层上。 |
申请公布号 |
CN100543566C |
申请公布日期 |
2009.09.23 |
申请号 |
CN200710085893.4 |
申请日期 |
2007.03.09 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
董畯豪;黄国有;黄宝玉 |
分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;G02F1/133(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
陈 晨 |
主权项 |
1. 一种制造显示基板的方法,包括:形成有源元件与电容结构于基板上,该有源元件具有漏极,该电容结构由共通电极与电容电极所构成;形成平坦层于该有源元件与该电容结构上方;及使用掩膜对该平坦层进行光刻蚀刻程序,以在该平坦层的部分上表面形成多个凸起,同时在该平坦层上形成导孔,以及同时形成蚀刻平面,其中该掩膜具有第一透光区、第二透光区、第三透光区和第四透光区,该第一透光区形成第一图案区,用以形成该导孔,该第二透光区与该第三透光区交错而构成第二图案区,用以形成这些凸起,该第四透光区与该第二透光区交错而构成第三图案区,用以形成蚀刻平面,该第三图案区中的第二透光区小于该第二图案区中的第二透光区。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |