发明名称 |
图形尺寸校正装置和图形尺寸校正方法 |
摘要 |
校正装置的构成包括:具有测试图形的试验用光掩模(1);利用该试验用光掩模(1),作为距离的函数并按与开口率的关系定量化测试图形上的上述尺寸变动的定量化机构(2);将具有多个实际器件图形的曝光区域分割为多个校正区域,按每一个校正区域算出开口率的开口率算出机构(3);用开口率算出机构算出的开口率输入到用试验用光掩模(1)定量化的结果中,按每一个校正区域算出实际器件图形的尺寸变动,据此校正实际器件图形的设计数据的数据校正机构(4);校正邻近效应的邻近效应校正机构(5)。借助于该校正装置,定量地估计在蚀刻中所曝光的图形上发生的尺寸变动,据此能够容易且正确地校正图形尺寸。 |
申请公布号 |
CN100543582C |
申请公布日期 |
2009.09.23 |
申请号 |
CN03817041.8 |
申请日期 |
2003.04.11 |
申请人 |
富士通微电子株式会社 |
发明人 |
青山肇;大泽森美;八尾辉芳;荻野宏三 |
分类号 |
G03F1/08(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/08(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
高龙鑫;潘培坤 |
主权项 |
1. 一种图形尺寸校正装置,将从规定位置起规定距离内的区域中光透过区域所占的比率设定为开口率,对在光刻中形成的实际器件图形,校正依赖于将上述实际器件图形的形成位置作为上述规定位置的开口率而发生的尺寸变动,其特征是包括:具有测试图形的试验用光掩模;定量化机构,其利用上述试验用光掩模,将上述测试图形的尺寸变动作为距离的函数并按照上述测试图形的尺寸变动与上述开口率的关系来定量化;开口率算出机构,其将具有多个上述实际器件图形的曝光区域分割为多个校正区域,按每一个上述校正区域算出上述开口率;数据校正机构,其将用上述开口率算出机构算出的上述开口率输入到上述定量化的结果,按每一个上述校正区域算出上述实际器件图形的上述尺寸变动,据此校正上述实际器件图形的设计数据;上述试验用光掩模的上述测试图形具有:成为估计上述尺寸变动的对象的测量用图形;作为在上述测量用图形上发生上述尺寸变动的光透过区域的,与上述测量用图形的距离不同的多个光斑发生图形;上述定量化机构,按上述尺寸变动与该测量用图形和上述各光斑发生图形之间的上述距离的关系将对应于上述各光斑发生图形的上述测量用图形的上述尺寸变动进行定量化,据此按上述尺寸变动与上述开口率的关系对上述尺寸变动进行定量化。 |
地址 |
日本东京都 |