发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号 EP1321823(B1) 申请公布日期 2009.09.23
申请号 EP20020258763 申请日期 2002.12.19
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 COX, HENDRIKUS HERMAN MARIE;AUER, FRANK;VAN DER WIJST, MARC WILHELMUS MARIA;JANSEN, BASTIAAN STEPHANUS HENDRIKUS;FRANKEN, DOMINICUS JACOBUS PETRUS ADRIANUS
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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