发明名称 |
采用有机溶剂制备二氧化铈粉末的方法以及包含该粉末的CMP浆料 |
摘要 |
本发明公开了一种在溶液相中直接制备二氧化铈粉末的方法,该方法通过a)将铈前体溶液与沉淀剂溶液混合而使反应发生;以及b)对反应的溶液进行氧化处理,其中,将至少一种不含水的纯有机溶剂用作用于铈前体溶液以及沉淀剂溶液的溶剂,从而来制备二氧化铈粉末,该粉末的粒度调节为50nm至3μm。本发明还公开了由该方法制得的二氧化铈粉末和包含该二氧化铈粉末作为抛光剂的CMP浆料。该方法通过在湿法沉淀法中采用有机溶剂作为溶剂可以制备具有50nm以上的平均粒度和高结晶度的二氧化铈粉末,而通过常规的湿法沉淀法则难以制备这样的粉末,并且即使没有经过单独的热处理也可将这样制备的二氧化铈粉末用作用于CMP浆料的抛光剂。 |
申请公布号 |
CN101541912A |
申请公布日期 |
2009.09.23 |
申请号 |
CN200780043118.0 |
申请日期 |
2007.11.20 |
申请人 |
LG化学株式会社 |
发明人 |
鲁埈硕;吴明焕;曹昇范;金种珌;金长烈 |
分类号 |
C09K3/14(2006.01)I;C01F17/00(2006.01)I |
主分类号 |
C09K3/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京金信立方知识产权代理有限公司 |
代理人 |
朱 梅;黄丽娟 |
主权项 |
1、一种在溶液相中直接制备二氧化铈粉末的方法,该方法包括下面的步骤:a)将铈前体溶液与沉淀剂溶液混合而使反应发生;以及b)对反应的溶液进行氧化处理,其中,将至少一种不含水的纯有机溶剂用作用于所述铈前体溶液以及沉淀剂溶液的溶剂,从而来制备二氧化铈粉末,该粉末的粒度调节为50nm至3μm。 |
地址 |
韩国首尔 |