发明名称 |
半导体元件及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种半导体元件包括带状多晶硅、漏极金属区块、源极金属区块、第一带状源极金属层、第一带状漏极金属层以及第一连接线。各个源极金属区块位于漏极金属区块之间,带状多晶硅则横跨漏极金属区块以及源极金属区块。第一带状源极金属层电性连接部分源极金属区块。第一带状漏极金属层则电性连接部分漏极金属区块。第一连接线耦接于带状多晶硅,其中第一连接线排列成网状。本发明还公开了一种半导体元件的制造方法。 |
申请公布号 |
CN101540322A |
申请公布日期 |
2009.09.23 |
申请号 |
CN200810081976.0 |
申请日期 |
2008.03.21 |
申请人 |
原景科技股份有限公司 |
发明人 |
薛光博 |
分类号 |
H01L27/085(2006.01)I;H01L27/088(2006.01)I;H01L23/528(2006.01)I;H01L21/8232(2006.01)I;H01L21/8234(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/085(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
彭久云 |
主权项 |
1.一种半导体元件,包含:多条带状多晶硅;多个漏极金属区块;多个源极金属区块,其中各个源极金属区块位于两漏极金属区块之间,该带状多晶硅则横跨该漏极金属区块以及该源极金属区块;第一带状源极金属层,电性连接部分该源极金属区块;第一带状漏极金属层,电性连接部分该漏极金属区块;以及多条第一连接线耦接于该带状多晶硅,其中该第一连接线排列成网状。 |
地址 |
中国台湾台南县 |