发明名称 半导体元件及其制造方法
摘要 本发明公开了一种半导体元件包括带状多晶硅、漏极金属区块、源极金属区块、第一带状源极金属层、第一带状漏极金属层以及第一连接线。各个源极金属区块位于漏极金属区块之间,带状多晶硅则横跨漏极金属区块以及源极金属区块。第一带状源极金属层电性连接部分源极金属区块。第一带状漏极金属层则电性连接部分漏极金属区块。第一连接线耦接于带状多晶硅,其中第一连接线排列成网状。本发明还公开了一种半导体元件的制造方法。
申请公布号 CN101540322A 申请公布日期 2009.09.23
申请号 CN200810081976.0 申请日期 2008.03.21
申请人 原景科技股份有限公司 发明人 薛光博
分类号 H01L27/085(2006.01)I;H01L27/088(2006.01)I;H01L23/528(2006.01)I;H01L21/8232(2006.01)I;H01L21/8234(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I 主分类号 H01L27/085(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 彭久云
主权项 1.一种半导体元件,包含:多条带状多晶硅;多个漏极金属区块;多个源极金属区块,其中各个源极金属区块位于两漏极金属区块之间,该带状多晶硅则横跨该漏极金属区块以及该源极金属区块;第一带状源极金属层,电性连接部分该源极金属区块;第一带状漏极金属层,电性连接部分该漏极金属区块;以及多条第一连接线耦接于该带状多晶硅,其中该第一连接线排列成网状。
地址 中国台湾台南县