用于离子注入装置的传感器

摘要

与处理工具一起使用的法拉第杯结构(110)。所述杯结构具有被耦合至电路的导电冲击板，用于监视撞击所述冲击板(120)的离子，以获得所述离子束电流的指示。遮罩(122)放置在所述导电冲击板前面，用于把离子束横截面分割成区域或部分。所述遮罩包括延伸至所述冲击板的壁，用于阻止到达所述传感器的离子和从所述传感器移除的颗粒进入到所述处理工具的被抽空的区域中。

主权项

1. 一种与半导体处理工具一起使用的设备，所述半导体处理工具具有被抽空的区域，用于通过引导离子束轰击工件来处理工件，所述设备包括：源、束转移结构和工件支撑件，其限定离子束中的离子的移动路径，所述离子束撞击注入站上的一个或多个工件，和传感器，其包括导电的基部和用于把所述束的离子拦截横截面分割成区域的遮罩，所述遮罩包括延伸至所述基部的壁，用于阻止到达所述传感器的离子反弹进入到所述处理工具的被抽空的区域中。