发明名称 位置测量系统
摘要 本发明提供一种位置测量系统,该位置测量系统包括:用于发射电磁波的电磁波源;用于反射所述电磁波以形成一电磁波汇聚区的镜;电磁波部件,设置在所述电磁波源与所述镜之间,并且用于改变所述电磁波的方向;接收装置,用于检测由所述镜形成的所述电磁波汇聚区;以及计算装置,用于基于由所述接收装置对所述电磁波汇聚区所检测到的信息,来测量所述电磁波源的位置。
申请公布号 CN101520310A 申请公布日期 2009.09.02
申请号 CN200910129951.8 申请日期 2004.09.15
申请人 富士施乐株式会社 发明人 濑古保次
分类号 G01B11/00(2006.01)I;G01S5/16(2006.01)I 主分类号 G01B11/00(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 李 辉
主权项 1、一种位置测量系统,包括:用于发射电磁波的电磁波源;用于反射所述电磁波以形成一电磁波汇聚区的镜;电磁波部件,设置在所述电磁波源与所述镜之间,并且用于改变所述电磁波的方向;接收装置,用于检测由所述镜形成的所述电磁波汇聚区;以及计算装置,用于基于由所述接收装置对所述电磁波汇聚区所检测到的信息,来测量所述电磁波源的位置。
地址 日本东京