印刷电路板双面曝光架构及双面曝光方法

摘要

本发明是有关于一种印刷电路板双面曝光架构及双面曝光方法。该双面曝光架构至少包含一曝光框、一对位镜头、一上底片、一下底片、一刚性隔板、及一对位装置，借由刚性隔板间隔上底片与下底片以避免刮伤，且通过对位镜头将下底片对准预先定位好的上底片的曝光定位，以达到印刷电路的双面曝光对位的目的。

主权项

1. 一种印刷电路板双面曝光架构，其特征在于：其至少包含：一曝光框，具有一曝光上框及一曝光下框，该曝光上框盖合于该曝光下框；一上底片，用以置于该曝光上框的下表面，具有至少一定位窗，以供设定一曝光定位；一下底片，用以置于该曝光下框的上表面，具有至少一定位点，以对准该曝光定位；一对位镜头，提供将该下底片的该定位点对准该上底片的该定位窗的中心，以将该下底片定位至该曝光定位；一刚性隔板，用以贴覆该下底片，并置于该上底片与该下底片之间，使该上底片与该下底片借由该刚性隔板而不接触；以及一对位装置，设于该曝光框下方，具有一对位销，提供穿过该刚性隔板以移动该刚性隔板，并带动贴覆于该刚性隔板的该下底片一起移动。