| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置，其包括：真空容器；旋转台，其在上述真空容器内进行旋转；基板载置构件，其能够装卸自如地安装在上述旋转台上，在上述旋转台的上表面侧提供与上述旋转台成为一体的用于载置基板的凹部，该基板载置构件构成在上述凹部内载置上述基板的底面；位置限制部，其设于上述旋转台和上述基板载置构件中的至少一个上，用于限制上述基板在上述旋转台旋转时因离心力而产生的移动；反应气体供给部，其用于向上述旋转台的上述上表面侧供给反应气体；真空排气部件，其用于对上述真空容器内进行排气。 | ||
| 申请公布号 | CN102086515A | 申请公布日期 | 2011.06.08 |
| 申请号 | CN201010578311.8 | 申请日期 | 2010.12.02 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 大泉行雄;本间学 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于，包括：真空容器；旋转台，其在上述真空容器内进行旋转；基板载置构件，其能够装卸自如地安装在上述旋转台上，在上述旋转台的上表面侧提供与上述旋转台成为一体的用于载置基板的凹部，该基板载置构件构成在上述凹部内载置上述基板的底面；位置限制部，其设于上述旋转台和上述基板载置构件中的至少一个上，用于限制上述基板在上述旋转台旋转时因离心力而产生的移动；反应气体供给部，其用于向上述旋转台的上述上表面侧供给反应气体；真空排气部件，其用于对上述真空容器内进行排气。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||