一种支撑结构

摘要

本实用新型公开了一种支撑结构，用于在MOCVD过程中，将半导体衬底固定在加热基板上，其中，所述加热基板位于加热器上，该支撑结构包括底座、固定环以及多个支撑板，所述支撑板均匀分布在所述加热器与所述固定环之间，对所述固定环起支撑作用，降低了喷砂处理过程对固定环造成的影响，减弱了固定环的中部凹陷的程度，从而提高了固定环的使用期限，降低了成本。

主权项

一种支撑结构，用于将半导体衬底固定在加热基板上，其中，所述加热基板位于加热器上，其特征在于，该支撑结构包括：底座，为第一圆环柱体结构，安装于所述加热器上；固定环，为第二圆环柱体结构，位于所述底座上，其顶部高于所述加热基板的顶部，其内径等于所述加热基板的直径，且小于所述第一圆环柱体结构的内径，其外径等于所述第一圆环柱体结构的外径；以及多个支撑板，均匀分布在所述加热器与所述固定环之间。