发明名称 纯镁表面磷灰石涂层的仿生法制备
摘要 本发明提供了一种在纯镁表面制备磷灰石涂层的方法。其具体方案是对打磨清洗过的纯镁基片采用酸碱两步法进行表面活化处理,然后浸入CaCl2和K2HPO4溶液中对其进行预钙化处理,使纯镁表面形成一层无定形的磷酸钙,再将该纯镁基片置于钙磷饱和溶液中一定时间后,其表面就会形成一层均匀的磷灰石涂层。
申请公布号 CN101249280B 申请公布日期 2011.06.08
申请号 CN200810047195.X 申请日期 2008.03.31
申请人 武汉理工大学 发明人 王欣宇;龚沛;李世普;闫玉华;陈晓明;韩颖超;江昕;李建华
分类号 A61L27/32(2006.01)I;A61L27/04(2006.01)I;A61F2/28(2006.01)N 主分类号 A61L27/32(2006.01)I
代理机构 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人 张安国
主权项 一种在纯镁表面制备磷灰石涂层的方法。其特征是,该制备方法包括以下步骤:(1)用水砂纸将纯镁片试样表面打磨粗糙,再将其依次用蒸馏水、无水丙酮、蒸馏水超声清洗,完成后取出,风干备用;(2)将步骤(1)清洗干燥过的纯镁片浸入1mol/L HCl溶液浸泡,酸蚀处理3min后取出,迅速在蒸馏水中清洗干净,风干备用;(3)将步骤(2)清洗干燥过的纯镁片浸入0.5mol/L的NaOH溶液中浸泡,温度为100℃,时间不少于30min后取出,用蒸馏水清洗干净,风干备用;(4)用CaCl2溶液和K2HPO4溶液对纯镁片表面进行预钙化处理配制0.1mol/L的CaCl2溶液和0.1mol/L的K2HPO4溶液,将经步骤(3)处理过的纯镁片置于CaCl2溶液中,然后向其中逐滴加入等体积的K2HPO4溶液,过程中不断搅拌,滴加完成后继续搅拌10min以上,此后静置1h以上,最后取出用蒸馏水清洗干净;(5)将经步骤(4)处理过的纯镁片浸入钙磷饱和溶液中不少于12d后取出,用去离子水清洗后,即在纯镁片表面得到均匀的磷灰石涂层,其中所述的钙磷饱和溶液按下述方法配制,配制1000ml,依次溶解8.035g NaCl、0.347g K2HPO4·3H2O、39ml 1.0M‑HCl、0.438g CaCl2和6.118g(CH2OH)3CNH2于超纯水中,用1.0M‑HCl和(CH2OH)3CNH2调节pH值为7.4。
地址 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号