在基片上制作带图形光学滤波层的方法

摘要

在基片上制作带图形光学滤波层的方法;本发明提供一种在基片上至少制作一个光学滤层分段的方法，其中,在基片表面上制作包含抗蚀层的掩模;利用真空沉积法，在基片表面上沉积光学滤波层;和从抗蚀层上去除有光学滤波层的抗蚀层;其中沉积光学滤波层至少发生在高于150℃的温度下，最好是在高于150℃至400℃的范围内。

主权项

一种在基片上制作光学滤波层分段的方法，其中在基片(1)的表面(3)上沉积抗蚀层(5)以制作掩模(15)，在高于150℃的温度利用真空沉积法在所述掩模(15)的表面上沉积光学滤波层(23)，此时加热已涂敷抗蚀层(5)的表面，并且在光学滤波层(23)沉积在抗蚀层(5)上之后冷却光学滤波层(23)，以便在所述光学滤波层(23)中形成裂纹，通过利用碱性溶液处理所述抗蚀层(5)以使所述碱性溶液穿透过所述光学滤波层(23)的裂纹进入所述抗蚀层(5)，并且使所述抗蚀层(5)膨胀，以及从基片(1)的表面(3)去除抗蚀层(5)。