发明名称 二氧化硅涂膜形成用组合物、二氧化硅涂膜及其制造方法、电子部件
摘要 本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物,含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂,作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂,作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物,具有如下固化性能,在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa,而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的相对电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物,在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。
申请公布号 CN101307209B 申请公布日期 2011.06.08
申请号 CN200810108406.6 申请日期 2003.02.26
申请人 日立化成工业株式会社 发明人 樱井治彰;阿部浩一;榎本和宏;野部茂
分类号 C09D183/04(2006.01)I;C09D7/00(2006.01)I;C09D5/25(2006.01)I 主分类号 C09D183/04(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 钟晶
主权项 一种具有流动性,而且在基体上涂布成膜状态下加热固化后形成二氧化硅类涂膜的二氧化硅类涂膜形成用组合物,其特征在于:含有如下组分:(a)组分:水解缩合以下式(1)表示的化合物而得到的硅氧烷树脂,R1nSiX4‑n  ……(1)式中,R1为H原子或者F原子,或者含B原子、N原子、Al原子、P原子、Si原子、Ge原子或者Ti原子的基团,或者碳原子数在1~20的有机基团,X为水解性基团,n为0~2的整数,n为2时,各R1可以相同也可以不同,n为0~2时,各X可以相同也可以不同,(b)组分:可以溶解所述(a)组分的溶剂,是选自醇类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂、乙腈、N,N‑二甲基甲酰胺、N,N‑二甲基乙酰胺和N,N‑二甲基亚砜中的至少一种溶剂;(c)组分:选自铵盐、鏻盐、鉮盐、锑鎓盐、氧鎓盐、锍盐、硒鎓盐、锡鎓盐、碘鎓盐中的至少一种鎓盐;上述(a)组分,相对于1摩尔Si原子,从H原子、F原子、B原子、N原子、Al原子、P原子、Si原子、Ge原子、Ti原子以及C原子组成的一群中选出的至少一种原子的总含量小于等于0.50摩尔;并且具有如下固化特性:在150℃加热3分钟时得到的上述二氧化硅类涂膜的应力大于等于10MPa,而且通过最终固化得到的二氧化硅类涂膜的相对电容率小于3.0。
地址 日本东京都