发明名称 |
具有改质聚酯基材的抛光带及其制法 |
摘要 |
本发明公开了一种具有改质聚酯基材的抛光带及其制法,此方法的步骤包含有:将聚酯基材置入氢氧化钠溶剂中反应,接着以盐酸与之进行酸碱中和反应,再将聚酯基材置入一促进剂中,并加入具有丙烯酸基团之化合物与聚酯基材进行反应,令聚酯基材形成末端具有丙烯酸基团的聚酯结构,并以此改质后的聚酯基材制备抛光带产品。本发明的制法可使聚酯基材具有一良好的粗糙面,以有效的提升聚酯基材与结合层之间的附着力。 |
申请公布号 |
CN102085644A |
申请公布日期 |
2011.06.08 |
申请号 |
CN200910224380.6 |
申请日期 |
2009.12.02 |
申请人 |
中国砂轮企业股份有限公司 |
发明人 |
林冠宏;陈映秀;戴智伟;陈雪屏;许应举;苏星玮 |
分类号 |
B24D11/00(2006.01)I;B24D11/02(2006.01)I |
主分类号 |
B24D11/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
梁挥;祁建国 |
主权项 |
一种具有改质聚酯基材的抛光带制法,其特征在于,包含以下步骤:将一聚酯基材置入一氢氧化钠溶剂中反应;以一盐酸对与该氢氧化钠溶剂反应后的该聚酯基材进行酸碱中和反应;将完成酸碱中和反应后的该聚酯基材置入一促进剂中,并添加一具有丙烯酸基团之化合物至该促进剂中,用以与该聚酯基材进行反应,令该聚酯基材形成末端具有一丙烯酸基团的聚酯结构,以形成一改质聚酯基材;以及将一研磨层涂布于该改质聚酯基材的一侧,以形成该具有改质聚酯基材的抛光带。 |
地址 |
中国台湾台北市 |