| 发明名称 | 外延设备气体的供应方法及装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种外延设备气体的供应方法，从氢气气源设备单独引出混合器氢气管路，提供混合器氢气。本发明从氢气气源设备单独引出管路提供混合器氢气进行工艺，操作简单，有效避免了其他腔体进行切换时引起氢气的波动对第二关键气体造成的干扰，保证了工艺参数的稳定，提高了外延设备的有效利用率，降低了芯片和设备维护的成本。 | ||
| 申请公布号 | CN102086966A | 申请公布日期 | 2011.06.08 |
| 申请号 | CN200910188493.5 | 申请日期 | 2009.12.03 |
| 申请人 | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 | 发明人 | 孙顺兴 |
| 分类号 | F17D1/04(2006.01)I;F17D3/01(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | F17D1/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人 | 何平 |
| 主权项 | 一种外延设备气体的供应方法，从氢气气源设备单独引出混合器氢气管路，提供混合器氢气。 | ||
| 地址 | 214000 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号 | ||