发明名称 |
微细结构体及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供了一种微细结构体,所述微细结构体具有优异的长期稳定性,并且能够通过热压结合以高的接合强度简单接合。所述微细结构体包含绝缘基底,所述绝缘基底具有密度为1×106至1×1010个微孔/mm2的各自具有10至500nm的孔径的贯通微孔。在每个贯通微孔内以30%以上的填充率填充金属。在所述绝缘基底材料的至少一个表面上设置了包含聚合物的层。 |
申请公布号 |
CN102089833A |
申请公布日期 |
2011.06.08 |
申请号 |
CN200980126621.1 |
申请日期 |
2009.07.07 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
畠中优介;铃木信也 |
分类号 |
H01B5/16(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I;H01R11/01(2006.01)I;H05K1/14(2006.01)I |
主分类号 |
H01B5/16(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
陈平 |
主权项 |
一种微细结构体,所述微细结构体包含绝缘基底,在所述绝缘基底中以1×106至1×1010个微孔/mm2的密度设置有孔径大小为10至500nm的贯通微孔,其中所述贯通微孔以至少30%的填充率填充有金属,并且在所述绝缘基底的至少一个表面上形成聚合物层。 |
地址 |
日本国东京都 |