一种凹面全息光栅曝光光路中实时监测装置的调整方法

摘要

一种凹面全息光栅曝光光路中实时监测装置的调整方法，属于光谱技术领域中涉及的凹面全息光栅曝光光路中所使用的实时监测装置的调整方法。要解决的技术问题是：提供一种调整凹面全息光栅曝光光路中实时监测装置的方法。技术方案为：步骤一，建立一套凹面全息光栅曝光装置；步骤二，将凹面全息光栅曝光装置中制作的全息光栅复位到原来光栅基底放置的位置，利用光学干涉方法将其调整至与光栅基底相同的位置；步骤三，将一He-Ne激光器发出的监测光束照射在全息光栅上，在其衍射光的出射光轴方向上放置光电探测器。该方法能准确地调整凹面全息光栅曝光光路中的实时监测装置，对提高凹面全息光栅制作技术水平有直接的重要价值。

主权项

一种凹面全息光栅曝光光路中实时监测装置的调整方法，其特征在于：步骤一，配备一套凹面全息光栅曝光装置，包括光源激光器(1)、第一平面反射镜(2)、分光镜(3)、第二平面反射镜(4)、第三平面反射镜(5)、第一空间滤波器(6)、第二空间滤波器(7)、干涉场(8)和光栅基底(9)；在光源激光器(1)的激光束传播方向的光轴上置有第一平面反射镜(2)；在第一平面反射镜(2)的反射光的光路上置有分光镜(3)，在分光镜(3)的反射光的光路上置有第二平面反射镜(4)，在分光镜(3)的透射光的光路上置有第三平面反射镜(5)，在第二平面反射镜(4)的反射光的光路上置有第一空间滤波器(6)，在第三平面反射镜(5)的反射光的光路上置有第二空间滤波器(7)，从第一空间滤波器(6)和第二空间滤波器(7)出射的球面光波在空间交汇区域形成干涉场(8)，两束球面光波的波源点分别位于第一空间滤波器(6)和第二空间滤波器(7)的针孔处，在干涉场(8)内放置被制作的凹面全息光栅的光栅基底(9)，光栅基底(9)的位置就是全息光栅的曝光位置；步骤二，将凹面全息光栅曝光装置中的光栅基底(9)进行试制，通过曝光、显影使其转化为具有浮雕轮廓的全息光栅(10)，将全息光栅(10)再放回曝光光路中，调整全息光栅(10)的方位以及滚转，使第一空间滤波器(6)的出射光束经全息光栅(10)的一级衍射光与第二空间滤波器(7)的出射光束经全息光栅(10)的零级光重合，即这两束光沿相同方向传播，在两束光的传播方向上放置接收屏(11)则能在接收屏(11)上看到干涉条纹，此时全息光栅(10)的刻线分布与干涉场(8)的条纹分布一致，即全息光栅(10)的位置被复原到了原光栅基底(9)所在的位置；步骤三，将接收屏(11)撤去，将监测激光器(12)与光电探测器(13)置于凹面全息光栅曝光装置中，使监测激光器(12)的出射光照射在全息光栅(10)表面，将光电探测器(13)放置在监测激光器(12)的出射光经全息光栅(10)衍射后产生的衍射光的光轴上，至此凹面全息光栅曝光光路中所使用的实时监测装置调整完毕。