发明名称 |
摩擦处理方法、摩擦处理装置、光学补偿膜的制造方法及其装置 |
摘要 |
本发明提供一种能够高效地除去在摩擦处理中产生的尘埃且通过谋求延长摩擦辊的寿命来提高生产率的摩擦处理方法、摩擦处理装置、光学补偿膜及其制造装置。该摩擦处理装置具备:在周面上粘贴有摩擦布(28)的摩擦辊(16);用于除去附着在摩擦布(28)上的尘埃的辊状的刷子(26);和对由摩擦布(28)除去的尘埃进行排气的尘埃排气装置(34)。 |
申请公布号 |
CN102087442A |
申请公布日期 |
2011.06.08 |
申请号 |
CN201010583629.5 |
申请日期 |
2010.12.08 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
村上大;伊藤秀知 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I;G02F1/13363(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I;B29C67/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
张楠;陈建全 |
主权项 |
一种摩擦处理方法,其特征在于,其包括下述工序:取向膜形成工序,使具备取向膜形成材料层的长条挠性薄膜沿着其长度方向移动,同时使粘贴在摩擦辊上的摩擦布以旋转的状态与该取向膜形成材料层的表面接触,从而形成取向膜;摩擦布除尘工序,上述摩擦布与上述长条挠性薄膜接触之后,使辊状的刷子与上述摩擦布的表面接触,从而除去附着在上述摩擦布上的尘埃;和尘埃排气工序,对在上述摩擦布尘埃除去工序中被除去了的尘埃进行排气除去。 |
地址 |
日本东京 |