发明名称 |
用于集成电路的基于模型的设计及布局的方法及系统 |
摘要 |
本发明描述一种方法,所述方法用于允许电子设计、检验及优化工具实施非常有效的方法而允许所述工具直接寻找出制造过程的影响,例如以识别及防止由光刻处理引起的问题。采用快速模型及图案检查来将光刻及制造感知过程集成于EDA工具(例如布线器)内。 |
申请公布号 |
CN102089762A |
申请公布日期 |
2011.06.08 |
申请号 |
CN200980127473.5 |
申请日期 |
2009.06.04 |
申请人 |
益华公司 |
发明人 |
亚-惜·赖;弗兰克·E·真纳里;马修·莫斯克维奇;斯里尼瓦斯·多迪;军江·雷;卫平·方;匡豪·莱 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
刘国伟 |
主权项 |
一种用于对电子设计进行布线的系统,其包含:计算机可读媒体,其包含将经历布线的电子设计的布局的副本;模型,其与制造所述电子设计的制造过程有关,其中所述模型包含图案数据库;及布线器,其用以为所述布局实施布线,所述布线器具有用于使用所述图案数据库执行图案匹配的集成模块。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |