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发明名称 CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD
摘要
申请公布号 KR101006676(B1) 申请公布日期 2011.01.10
申请号 KR20080087099 申请日期 2008.09.04
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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