发明名称 Etchant and array substrate having copper lines etched by the etchant
摘要 An etchant includes hydrogen peroxide (H2O2), and a mixed solution including at least one of an organic acid, an inorganic acid, and a neutral salt.
申请公布号 US7850866(B2) 申请公布日期 2010.12.14
申请号 US20040889052 申请日期 2004.07.13
申请人 LG DISPLAY CO., LTD. 发明人 JO GYOO-CHUL;CHAE KI-SUNG
分类号 C09K13/04;G02F1/1343;C09K13/06;C23F1/18;C23F1/26;G02F1/1368;H01L21/28;H01L21/306;H01L21/3213;H01L21/336;H01L29/45;H01L29/786 主分类号 C09K13/04
代理机构 代理人
主权项
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