发明名称 Semiconductor device and method for manufacturing the same
摘要 A semiconductor device is provided including a transistor element on a substrate, a silicide on a gate and a source/drain of the transistor element; and an amorphous capping layer on the silicide.
申请公布号 US7851341(B2) 申请公布日期 2010.12.14
申请号 US20070844016 申请日期 2007.08.23
申请人 DONGBU HITEK CO., LTD. 发明人 JEON DONG KI
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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