| 发明名称 |
Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| 摘要 |
In an immersion lithography apparatus, ultrasonic waves are used to atomize liquid on a surface of the substrate.
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| 申请公布号 |
US7852457(B2) |
申请公布日期 |
2010.12.14 |
| 申请号 |
US20080213589 |
申请日期 |
2008.06.20 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
BELFROID STEFAN PHILIP CHRISTIAAN;TEN KATE NICOLAAS;KEMPER NICOLAAS RUDOLF;SMEULERS JOHANNES PETRUS MARIA;VOLKER ARNO WILLEM FREDERIK;BREEUWER RENE |
| 分类号 |
G03B27/52;G03B27/32;G03B27/42;G03C5/00 |
主分类号 |
G03B27/52 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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