发明名称 黏着辅助剂组成物
摘要
申请公布号 TWI334434 申请公布日期 2010.12.11
申请号 TW093113298 申请日期 2004.05.12
申请人 化药股份有限公司 发明人 内田诚;浅野豊文
分类号 C09J11/08 主分类号 C09J11/08
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 一种表面黏着性薄膜之制造方法,其特征为:将聚醯亚胺前驱体溶液涂布于基板,并予以乾燥而制作聚醯亚胺前驱体薄膜,再于其上涂布含有含酚性羟基之聚醯胺及溶剂的黏着辅助剂组成物,乾燥之后于200至500℃加热而将聚醯亚胺前驱体加以醯亚胺化。如申请专利范围第1项之表面黏着性薄膜之制造方法,其中,含酚性羟基之聚醯胺系具有下式(3)所示之重复构造者:@sIMGTIF!d10012.TIF@eIMG!(式(3)中,R1表示2价芳族基,重复单元中各R1可相同亦可不同;n为平均取代基数,表示1至4之正数;x、y、z为平均聚合度,x表示1至10,y表示0至20、z表示1至50之正数)。如申请专利范围第1项或第2项之表面黏着性薄膜之制造方法,其中,将聚醯亚胺前驱体溶液涂布于基板,于50至150℃下乾燥5至180分钟而制作聚醯亚胺前驱体薄膜,再于其上涂布含有含酚性羟基之聚醯胺及溶剂的黏着补助剂组成物,于50至150℃下乾燥5至180分钟后,在氮气流下于200至500℃加热20至300分钟,将聚醯亚胺前驱体加以醯亚胺化。一种表面黏着性薄膜,系藉由如申请专利范围第1项至第3项中任一项之制造方法而得者,其中,于其薄膜表面上局部存在有酚性羟基。一种单面覆铜积层板,系具有申请专利范围第4项之表面黏着性薄膜者,其中,其基板系使用铜箔。一种两面覆铜积层板,系使申请专利范围第5项之单面覆铜积层板之薄膜表面彼此藉由含有环氧化合物之黏着剂予以黏着而获得者。
地址 日本