| 主权项 |
一种阴离子型共聚合物，具有如下式(I)之结构：@sIMGTIF!d10003.TIF@eIMG!其中R1为氢、硷金族元素或NH4，R2为氢、硷金族元素或CxH2x＋1，x为1到50之整数，n为1到5000之整数，m为1到5000之整数，p为1到100之整数。如申请专利范围第1项所述之共聚合物，其中R2系为C18H37。一种制备具有如下式(I)结构之阴离子型共聚合物之方法：@sIMGTIF!d10004.TIF@eIMG!其中R1为氢、硷金族元素或NH4，R2为氢、硷金族元素或CxH2x＋1，x为1到50之整数，n为1到5000之整数，m为1到5000之整数，p为1到100之整数；其包含以下步骤：(a)混合一(3-18烷基-聚乙二醇-羰基)丙烯酸与一丙烯醯胺；(b)加入一种硷，形成一反应物；(c)于氮气中加热该反应物；(d)该反应物中加入一种起始剂及一种链转移剂，持续反应2小时；以及(e)纯化该反应物，加入一种抑制剂，烘乾得式(I)之共聚合物。如申请专利范围第3项所述之方法，其中该步骤(b)所使用之该硷系为氢氧化钠。如申请专利范围第3项所述之方法，其中该步骤(c)该加热温度系为60℃。如申请专利范围第3项所述之方法，其中该步骤(d)所使用之该起始剂系为过硫酸铵。如申请专利范围第3项所述之方法，其中该步骤(d)所使用之该链转移剂系为2-甲基丙烯磺酸铵。如申请专利范围第3项所述之方法，其中该步骤(e)所使用之该抑制剂系为对-苯二酚。一种陶瓷粉末浆体之分散剂，其具有如下式(I)之结构：@sIMGTIF!d10001.TIF@eIMG!其中R1为氢、硷金族元素或NH4，R2为氢、硷金族元素或CxH2x+1，x为1到50之整数，n为1到5000之整数，m为1到5000之整数，p为1到100之整数。如申请专利范围第9项所述之分散剂，其中R2系为C18H37。如申请专利范围第9项所述之分散剂，系为一种钛酸基陶瓷粉末之分散剂。如申请专利范围第11项所述之分散剂，其中该分散剂添加量为该陶瓷粉浆体之0.1~5.0 wt%。 |
