| 主权项 |
一种具有二维分布之微电阻单元之薄片的流体反应器，其包括：一流体反应器，系由一第一壳部及一第二壳部相对锁合而成，且该第一壳部及该第二壳部间形成至少一流道及一分隔肋；一薄片，其上具有复数孔洞，而具有良好之透气性，该薄片之厚度系小于100微米；复数个微电阻单元，系设于该薄片上，该每一微电阻单元至少具有两个信号接点及位于两个信号接点间之一电阻部；该微电阻单元之厚度系小于60微米；一触媒反应部，系夹设于该第一、第二壳部间，并用以产生一化学反应；一双向控制部，系连接该复数个微电阻单元之两个信号接点，而用以控制预定位置及预定数量之微电阻单元上的电阻部，该每一微电阻单元具有多重使用模式，其包括：一温度侦测模式，系以该双向控制部量得之预定位置的微电阻单元之电阻值，对应出该微电阻单元处之温度；一电压侦测模式，系以该双向控制部量得之预定位置的微电阻单元之电压值，对应出该微电阻单元处之电压；一电流侦测模式，系以该双向控制部量得之预定位置的微电阻单元之电流值，对应出该微电阻单元处之电流；一反向加热模式，系以该双向控制部对该预定位置的微电阻单元施加一加热电流，使该微电阻单元产生预定之热量；一流速侦测模式，系以该双向控制部对该预定位置之微电阻单元施加一加热电流，使该微电阻单元产生预定之热量，并对该微电阻单元相邻之一上游处的微电阻单元与一下游处之微电阻单元进行温度差之量测，再对应出一流速。如申请专利范围第1项所述之具有二维分布之微电阻单元之薄片的流体反应器，其中，该复数个微电阻单元系于该薄片上概呈M乘以N个阵列状之分布设置，其中M≦10且N≧10；又，该复数个微电阻单元之一部份系接触该流道，而另一部份系接触该分隔肋。如申请专利范围第1项所述之具有二维分布之微电阻单元之薄片的流体反应器，其中，该复数个微电阻单元系可分别于不同时间切换至不同之使用模式。 |
