| 主权项 |
一种积层体，其包含基板(III)、提供在该基板(III)上之底漆层(II)及直接提供在该底漆层(II)上之面漆层(I)，其中该面漆层(I)系使用含(A)可固化之含氟树脂、(B)固化剂及(C)包括含官能基之矽烷偶合剂及/或铝螯合剂之偶合剂的面漆组合物所形成，且该底漆层(II)系使用包含(D)聚二有机矽氧烷、(E)聚有机矽氧烷树脂及(F)包括含官能基之矽烷偶合剂及/或铝螯合剂之偶合剂的底漆组合物所形成，其中(B)固化剂为至少一种选自包含异氰酸酯固化剂、胺固化剂、环氧固化剂所组成之群之固化剂，(D)聚二有机矽氧烷包含R2SiO2/2之矽氧烷单位之重覆单元，且R为经取代或未经取代之单价烃基，(E)聚有机矽氧烷树脂包含R3SiO矽氧烷单元及SiO4/2矽氧烷单元，R为经取代或未经取代之单价烃基，且在(E)聚有机矽氧烷树脂中，R3SiO矽氧烷单元对SiO4/2矽氧烷单元之莫耳比在0.5至1.5之范围内。如请求项1之积层体，其中该可固化之含氟树脂(A)具有羟基作为可固化基团。如请求项2之积层体，其中该面漆层(I)含有含异氰酸根之矽烷偶合剂作为该偶合剂(C)。如请求项3之积层体，其中该底漆层(II)含有铝螯合剂及/或含胺基之矽烷偶合剂作为该偶合剂(F)。如请求项2之积层体，其中该面漆层(I)含有铝螯合剂作为该偶合剂(C)。如请求项5之积层体，其中该底漆层(II)含有铝螯合剂及/或含胺基之矽烷偶合剂作为该偶合剂(F)。如请求项1至6中任一项之积层体，其中该面漆层(I)进一步含有聚四氟乙烯颗粒。如请求项1至6中任一项之积层体，其中该基板(III)为聚矽氧橡胶基板。如请求项1至6中任一项之积层体，其中在供底漆层(II)使用之该底漆组合物中，该聚二有机矽氧烷(D)包含R2SiO2/2矽氧烷单位之重覆单元，且于25℃下其黏度小于100mPa．s，而该聚有机矽氧烷树脂(E)包含R3SiO1/2矽氧烷单元及SiO4/2矽氧烷单元。一种积层体之制造方法，该积层体系包含基板(III)、提供在该基板(III)上之底漆层(II)及直接提供在该底漆层(II)上之面漆层(I)者，其中该面漆层(I)系藉由使用含(A)含可固化之含氟树脂、(B)固化剂及(C)偶合剂之面漆组合物的固化体而形成，该(C)偶合剂包括含官能基之矽烷偶合剂及/或铝螯合剂，且该底漆层(II)系藉由使用含(D)聚二有机矽氧烷、(E)聚有机矽氧烷树脂及(F)偶合剂之底漆组合物而形成，该(F)偶合剂包括含官能基之矽烷偶合剂及/或铝螯合剂，其中(B)固化剂为至少一种选自包含异氰酸酯固化剂、胺固化剂、环氧固化剂所组成之群之固化剂，(D)聚二有机矽氧烷包含R2SiO2/2之矽氧烷单位之重覆单元，且R为经取代或未经取代之单价烃基，(E)聚有机矽氧烷树脂包含R3SiO矽氧烷单元及SiO4/2矽氧烷单元，R为经取代或未经取代之单价烃基，且在(E)聚有机矽氧烷树脂中，R3SiO矽氧烷单元对SiO4/2矽氧烷单元之莫耳比在0.5至1.5之范围内，该方法包括：直接或藉由层间层在该基板(III)上形成含(D)聚二有机矽氧烷、(E)聚有机矽氧烷树脂及(F)偶合剂(其包括含官能基之矽烷偶合剂及/或铝螯合剂)之底漆组合物之涂膜的步骤；藉由施用含(A)可固化之含氟树脂、(B)固化剂及(C)偶合剂(其包括含官能基之矽烷偶合剂及/或铝螯合剂)之面漆组合物而形成未经固化面漆层的步骤；及固化该未经固化面漆层之步骤。如请求项10之积层体之制造方法，该积层体系包含基板(III)、提供在该基板(III)上之底漆层(II)及直接提供在该底漆层(II)上之面漆层(I)的积层体，该制造方法包括：直接或藉由层间层在该基板(III)上形成含(D)聚二有机矽氧烷、(E)聚有机矽氧烷树脂及(F)偶合剂(其包括含官能基之矽烷偶合剂及/或铝螯合剂)之底漆组合物之涂膜的步骤；使该涂膜进行乾燥或交联反应之步骤；藉由施用含(A)可固化之含氟树脂、(B)固化剂及(C)偶合剂(其包括含官能基之矽烷偶合剂及/或铝螯合剂)之面漆组合物而形成未经固化面漆层的步骤；及固化该未经固化面漆层之步骤。一种供行动电话使用之小型键盘，其系藉由使用如请求项1至9中任一项之积层体而制得。 |
