发明名称 光学记录材料
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.05.11
申请号 TW092100236 申请日期 2003.01.07
申请人 艾迪科股份有限公司 发明人 矢野亨
分类号 C09B47/04 主分类号 C09B47/04
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种光学记录材料,其系用于在基体上形成有光学记录层之光学记录媒体中之该光学记录层者,其含有下列通式(I)或(II)之化合物:@sIMGTIF!d10014.TIF@eIMG!(式中,环A及环B两者为可具有取代基之苯环、或两者为可具有取代基之萘环,R1为碳数1~4之烷基;R2及R3为碳数1~4之烷基、苄基或彼此连结而形成3~6员环之基;X为氢原子、卤素原子、碳数1~4之烷基、苯基、苄基或氰基;Y1及Y2各自独立地为选自可以醚键插入、且可被烷氧基、烯基、硝基、氰基或卤素原子取代之烷基、烯基、烷芳基及苯基之烃基;Anm-为无机系阴离子、有机磺酸阴离子、有机磷酸系阴离子及下列通式(A)所表示之阴离子:@sIMGTIF!d10015.TIF@eIMG!(式中,M表示镍原子或铜原子;R4及R5表示卤素原子、碳数1~8之烷基、碳数6~30之芳基或-SO2-Z基;Z表示烷基、可被卤素原子取代之芳基、二烷胺基、二芳胺基、六氢吡啶基或吗福啉基;a及b各自表示0~4);m为1之整数;以及p为使电荷保持中性之系数)。如申请专利范围第1项之光学记录材料,其中该通式(I)或(II)中,R2及R3彼此连结形成3~6员环之基。如申请专利范围第1项之光学记录材料,其中该通式(I)或(II)中之X为氢原子。如申请专利范围第2项之光学记录材料,其中该通式(I)或(II)中之X为氢原子。一种光学记录媒体,其在基体上形成包含申请专利范围第1至4项中任一项之光学记录材料之薄膜。
地址 日本