| 发明名称 |
薄膜涂膜之方法及该方法所制造之装置 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI352023 |
申请公布日期 |
2011.11.11 |
| 申请号 |
TW096138709 |
申请日期 |
2007.10.26 |
| 申请人 |
財團法人工業技術研究院 新竹縣竹東鎮中興路4段195號 |
发明人 |
吕志平;李裕正;林国栋 |
| 分类号 |
B41J2/17;H01L51/40 |
主分类号 |
B41J2/17 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪澄文 台北市大安区信义路4段279号3楼;颜锦顺 台北市大安区信义路4段279号3楼 |
| 主权项 |
一种形成一连续薄膜层之方法，该方法包含：提供一具有一表面之基板；于该表面上形成一第一图案化薄膜层，该第一图案化薄膜层包括彼此隔开之复数个第一薄膜单元；及于该第一图案化薄膜层上形成一第二图案化薄膜层，该第二图案化薄膜层沿该第一图案化薄膜层延伸且包括彼此隔开之复数个第二薄膜单元，该复数个第二薄膜单元之每一者连接该第一图案化薄膜层之至少两个紧邻的第一薄膜单元，其中该第二图案化薄膜层与该表面之亲和力小于或等于该第一图案化薄膜层与该表面之亲和力。 |
| 地址 |
新竹县竹东镇中兴路4段195号 |
