发明名称 净化半导体制程废气之合氧供热装置
摘要 本创作提供一种净化半导体制程废气之合氧供热装置,包括罩设于处理槽顶部的头座,头座上设有废气导管与热管,该废气导管延伸至该处理槽内形成一朝下的废气排放口,该热管植入该处理槽内形成一沿该废气排放口方向延伸形成的管部,且该管部一端形成一热空气排放口,该热空气排放口系低于该废气排放口一特定距离,藉以供应热空气进入处理槽内,并增加废气与该热管产生之热源的接触时间,以净化废气中的有害物质。
申请公布号 TWM423583 申请公布日期 2012.03.01
申请号 TW100218744 申请日期 2011.10.06
申请人 东服企业股份有限公司 发明人 冯五裕
分类号 B01D53/74 主分类号 B01D53/74
代理机构 代理人 沈维扬 台北市信义区基隆路2段91号3楼之1
主权项
地址 台北市中山区中山北路1段72号11楼之6 TW RM. 6, 11TH FL., 72, CHUNG SHAN N. RD., SEC. 1, TAIPEI, TAIWAN, (R. O. C.)