线图案阵列及具有该图案阵列之光罩的形成方法以及藉由此方法所制造的半导体元件

摘要

一种线图案阵列之形成方法包括设定布局之步骤，该布局包含配置成具有第一线宽之第一连续线图案、及配置成具有比该第一线宽大之第二线宽并位在该等第一连续线图案外部的第二连续线图案；将该布局转移在晶圆上；并藉由将最紧密邻接该等第二连续线图案之该等第一连续线图案的最外部图案变更为复数个点线图案，以引起光线散射，其中多数点图案系以直线形式配置，使得依据该等点图案之尺寸，形成在线宽上异于该等第一连续线图案之线图案。