| 摘要 |
本发明系提供一种在维持抗反射膜性能之同时，具有特别优良的涂布特性之抗反射被覆用组成物，及使用它之图案形成方法。一种抗反射被覆用组成物，其至少含有下述(A)、(B)、(C)、(D)、及(E)成分。;(A)下述通式(1)CnF2n＋1(CH2CH2)mSO3H (1)(式中，n系表示1~20的整数，m系表示0~20之整数)所示之全氟烷基伸烷基磺酸(B)有机胺(C)水溶性聚合物(D)下述通式(2)CkF2k＋1CH2CH2－X－Y (2)(式中，k系表示1~20的整数，X系表示单键或是2价连结基，Y系表示阴离子性基或是非离子性基。其中，具有与上述(A)成分不同结构之化合物)所示之含有全氟烷基乙基化合物，以及(E)水 |
