发明名称 散热单元之散热结构
摘要 一种散热单元之散热结构,系包含:一散热单元本体,其具有一腔室,所述腔室设有至少一奈米级线状体结构层及一工作流体,该奈米级线状体结构层系设于该腔室内壁,透过于该腔室内设置该奈米级线状体结构层系可大幅提升毛细现象,进而增强散热装置内部之工作流体之汽液循环效率,藉以提升热传效能者。
申请公布号 TWM427770 申请公布日期 2012.04.21
申请号 TW100224965 申请日期 2011.12.30
申请人 奇鋐科技股份有限公司 发明人 杨修维;林志晔
分类号 H05K7/20 主分类号 H05K7/20
代理机构 代理人 孙大龙 台北市大安区复兴南路2段283号7楼
主权项
地址 新北市新庄区五权二路24号7楼之3 TW TAIPEI 7F-3, NO. 24, WU-CHUAN 2 RD., HSIN CHUANG CITY, TAIWAN, R.O.C.