发明名称 | 散热单元之散热结构 | ||
摘要 | 一种散热单元之散热结构,系包含:一散热单元本体,其具有一腔室,所述腔室设有至少一奈米级线状体结构层及一工作流体,该奈米级线状体结构层系设于该腔室内壁,透过于该腔室内设置该奈米级线状体结构层系可大幅提升毛细现象,进而增强散热装置内部之工作流体之汽液循环效率,藉以提升热传效能者。 | ||
申请公布号 | TWM427770 | 申请公布日期 | 2012.04.21 |
申请号 | TW100224965 | 申请日期 | 2011.12.30 |
申请人 | 奇鋐科技股份有限公司 | 发明人 | 杨修维;林志晔 |
分类号 | H05K7/20 | 主分类号 | H05K7/20 |
代理机构 | 代理人 | 孙大龙 台北市大安区复兴南路2段283号7楼 | |
主权项 | |||
地址 | 新北市新庄区五权二路24号7楼之3 TW TAIPEI 7F-3, NO. 24, WU-CHUAN 2 RD., HSIN CHUANG CITY, TAIWAN, R.O.C. |