利用液体弯月面施行之蚀刻后晶圆表面清理

摘要

一种半导体晶圆表面的清理方法。施加第一清理溶液于晶圆表面，以移除晶圆表面之污染物。第一清理溶液亦随着晶圆表面其中一些污染物而移除。接着，施加氧化剂溶液于晶圆表面。氧化剂溶液在残余的污染物上形成氧化层。移除氧化剂溶液，然后施加第二清理溶液于晶圆表面。从晶圆表面移除第二清理溶液。清理溶液实际上可以用来把氧化剂层和残余的污染物一并移除。