| 主权项 |
1﹒一种闸流10,其特点为包括:在一半导体本体内为一种导电型式之一第一半导体区14;在该第一区之一第一部份之相对边上属于与该一种导型式相反之一种导电型式之第二16及第三18半导体区;在该第一区之一第二部份之相对边上属于该种相反导电型式之第四24及第五26半导体区;分别其次邻接该第三及第四区并与该第一区相间隔为该一种导电型式之第六28及第七30半导体区;使该第二区与该第四区相隔离之工具56;以及使该第五区与该第三区相隔离之工具58者。2﹒根据上述请求专利部份第1项之一种闸流体,乃系进一步包括:以电气方式连接该等第二及第七区之工具;以及以电气方式连接该等第五及第六区之工具者。3﹒根据上述请求专利部份第2项之一种闸流体,乃系进一步包括被耦合至该第一区之工具,以用触发该闸流体成导电者。4﹒根据上述请求专利部份第3项之一种闸流体,在其中,该项工具乃系包括有射入该第一区之电磁辐射者。5﹒根据上述请求专利部份第1项之一种闸流体,在其中,使该等第二与第四区相隔离之该项工具乃系包括一第一壕沟,该壕沟(MOAT)则系包围该等第二及第四区之四周并延伸至该第一区者。6﹒根据上述请求专利部份第5项之一种闸流体,在其中,使该等有三与第五区相隔离之该项工具乃系包括一第二壕沟,该壕沟则系包围该等第三及第五区之四周并延伸至该第一区者。7﹒根据上述请求专利部份第6项之一种闸流体,乃系另外包括一种透明绝缘材料之一层,该层绝缘材料则系覆盖在该等第一及第二壕沟内部之该第一区上面者。8﹒根据上述请求专利部份第1项之一种闸流体,乃系另外包括:具有与其以电气连接之该等第五及第六区之一可传热基质;以及与该等第二及第十区或间隔关系之一发光二极体者。9﹒根据上述请求专利部份第6项之一种闸流体,乃系另外包括:伸过该基质并与其电气绝缘之接头工具;与该基质相间隔并系由该接头工具所支持之一绝缘机件;以及被安装于该绝缘机件之一表面上之该发先二极体,该表面乃系邻接该等第二及第七区者。10﹒根据上述请求专利部份第9项之一种闸流体,在其中,该项接头工具乃系包括有四个坚硬金属接头,并以:该等接头中之一第一接头以电气耦合至该发光二极体之一第一部份;该等接头中之第二接头以电气耦合至该发光二极体之一第二部份;该等接头中之一第三接头以电气耦合至该等第二及第七区;以及以该第四接头以电气耦合至该等第五及第六区者。11﹒根据上述请求专利部份第10项之一种闸流体,在其中,被该基质,该绝缘机件:以及该等四个接头所界定之该项空间乃系填充有一种树胶材料,该种树胶材料则系具有在三﹒0与四﹒0间之一折射指数者。12﹒一种闸流体,包括:具有两个相对表面之一半导体本体;在该两表面之间界定该本体之一第一部份中之一PNPN结构之工具,俾使一P型区延伸至该两表面中之一第一表面,以及使一N型区延伸至该两表面中之一第二表面;在该两表面之间界定该本体之一第二部份内之一NPNP结构,俾使一N型区延伸至该第一表面,以及使一P型区伸展至该第二表面;并且在其中,该PNPN及该NPNP结构乃系只共用该等区中之一区,该等区则系并未延伸至该两表面中之任何一表面者。 |
