清洁研磨物

摘要

一种清洁研磨物包含一表面、数个四角星形凸块及数个舟形凸块。该等四角星形凸块阵列排列于该表面上，每一四角星形凸块包括四分别与该表面相接的侧凹弧面，且紧邻的四角星形凸块以两相对侧凹弧面相互镜射的方式排列。该等舟形凸块彼此间隔地形成于该表面上，且在每二紧邻的四角星形凸块间设置一舟形凸块，每一舟形凸块包括二分别与该表面相接的侧凸弧面，每一侧凸弧面与一相邻侧凹弧面凹凸对应。本新型的弧形边长有助于刮除基板上的碎屑，并且本新型清洁研磨物还能有效保持住清洁液在清洁研磨物与被研磨的基板间，则可降低研磨时产生的高温。

主权项

一种清洁研磨物，包含：一表面；数个四角星形凸块，阵列排列于该表面上，每一四角星形凸块包括四分别与该表面相接的侧凹弧面，且紧邻的四角星形凸块以两相对侧凹弧面相互镜射的方式排列；以及数个舟形凸块，彼此间隔地形成于该表面上，且在每二紧邻的四角星形凸块间设置有其中一舟形凸块，每一舟形凸块包括二分别与该表面相接的侧凸弧面，每一侧凸弧面与一相邻侧凹弧面凹凸对应。根据申请专利范围第1项所述之清洁研磨物，为一板体并用以研磨一玻璃基板。根据申请专利范围第2项所述之清洁研磨物，其中，每一侧凹弧面具有一与该表面相接的底凹弧，及一与该底凹弧相反的顶凹弧，每一侧凸弧面具有一与该表面相接的底凸弧，及一与该底凸弧相反的顶凸弧，相邻的底凹弧与底凸弧为同心弧，且两者间距离为0.2至1mm，相邻的顶凹弧与顶凸弧为同心弧，且两者间距离为0.6至1.5mm。根据申请专利范围第3项所述之清洁研磨物，其中，相邻的底凹弧与底凸弧间距离较佳为0.4mm，相邻的顶凹弧与顶凸弧间距离较佳为0.8mm。根据申请专利范围第4项所述之清洁研磨物，其中，每一四角星形凸块还包括一远离该表面且与其侧凹弧面相连的星形顶面，每一舟形凸块还包括一远离该表面且与其侧凸弧面相连的舟形顶面，每一四角星形凸块由该表面至其星形顶面的高度为0.3至1.5mm，每一舟形凸块由该表面至其舟形顶面的高度为0.3至1.5mm。根据申请专利范围第5项所述之清洁研磨物，其中，每一四角星形凸块由该表面至其星形顶面的高度较佳为0.7mm，每一舟形凸块由该表面至其舟形顶面的高度较佳为0.7mm。根据申请专利范围第1项所述之清洁研磨物，为一圆柱体，该表面为该圆柱体的圆柱面，并用以研磨一玻璃基板。根据申请专利范围第7项所述之清洁研磨物，其中，每一侧凹弧面具有一与该表面相接的底凹弧，及一与该底凹弧相反的顶凹弧，每一侧凸弧面具有一与该表面相接的底凸弧，及一与该底凸弧相反的顶凸弧，相邻的底凹弧与底凸弧为同心弧，且两者间距离为0.5至1.5mm，相邻的顶凹弧与顶凸弧为同心弧，且两者间距离为1.2至2.5mm。根据申请专利范围第8项所述之清洁研磨物，其中，相邻的底凹弧与底凸弧间距离较佳为0.6mm，相邻的顶凹弧与顶凸弧间距离较佳为1.7mm。根据申请专利范围第9项所述之清洁研磨物，其中，每一四角星形凸块还包括一远离该表面且与其侧凹弧面相连的星形顶面，每一舟形凸块还包括一远离该表面且与其侧凸弧面相连的舟形顶面，每一四角星形凸块由该表面至其星形顶面的高度为1至4mm，每一舟形凸块由该表面至其舟形顶面的高度为1至4mm。根据申请专利范围第10项所述之清洁研磨物，其中，每一四角星形凸块由该表面至其星形顶面的高度较佳为2.5mm，每一舟形凸块由该表面至其舟形顶面的高度较佳为2.5mm。根据申请专利范围第11项所述之清洁研磨物，其圆柱体直径为80mm。根据申请专利范围第1项至第12项中任一项所述之清洁研磨物，其中，每一四角星形凸块朝远该表面的方向渐缩，每一舟形凸块朝远该表面的方向渐缩。根据申请专利范围第13项所述之清洁研磨物，其中，每一四角星形凸块的侧凹弧面各对应一舟形凸块的侧凸弧面。根据申请专利范围第14项所述之清洁研磨物，其中，该表面、该等侧凹弧面及该等侧凸弧面共同界定出一沟槽，该沟槽供清洁液容置且呈数个彼此交叉重叠的圆。