发明名称 高频电浆辐射源及表面照射之方法
摘要 本发明系关于一种高频电浆辐射源(1),其具有一为电浆设置之电浆室(3),一些为高频电浆辐射源(1)施加一电压、以便点燃并保持电浆之电气机具(8、9),一由电浆室(3)中将电浆辐射(I)抽取出来之抽取栅板(4)及一个被抽取栅板(4)自真空室(7)分隔出来之出口。电浆辐射(I)基本上具有发散之辐射特性,由高频电浆辐射源(1)中发射出来。此外,本发明系关于一种方法,利用一高频电浆辐射源之电浆辐射(I)做为一表面照射,而电浆辐射(I)系发散之。;(图三)
申请公布号 TWI379620 申请公布日期 2012.12.11
申请号 TW093109834 申请日期 2004.04.09
申请人 莱宝光电有限公司 发明人 鲁朵夫 贝克曼博士
分类号 H05H1/00 主分类号 H05H1/00
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种高频电浆辐射源,其具一为电浆设置之电浆室(3),并有一些用于点燃并得到电浆之电气机具(8、9),并有一用于自电浆室(3)中将中性电浆辐射(I)抽取出来之抽取栅板(4)及一出口,而抽取栅板(4)则被设置于出口之范围内,其特征为,为达到形成分散之中性电浆辐射(I)由电浆室(3)看去之抽取栅板(4)系形成凸起之构造。根据申请专利范围第1项所述之高频电浆辐射源,其中,中性电浆辐射(I)之散发性,透过抽取栅板(4)之非平面形状实现。根据申请专利范围第1项或第2项所述之高频电浆辐射源,其中,为使电浆流量密度达到一很高之均匀度,于喷射之弯曲表面至少一部分区域,中性电浆辐射(I)之形状至少与一部份之表面相吻合。根据申请专利范围第1项或第2项所述之高频电浆辐射源,其中,至少有一部分之抽取栅板之表面,系由一个圆柱状空心体之外表面所截下来。根据申请专利范围第1项或第2项所述之高频电浆辐射源,其中,至少有一部分之抽取栅板(4)之表面,系设置成不规则之构造。根据申请专利范围第1项或第2项所述之高频电浆辐射源,其中,至少设置有一位在电浆室(3)外面之遮板。根据申请专利范围第1项或第2项所述之高频电浆辐射源,其中,有一部分之出口系被遮板所遮住。根据申请专利范围第1项或第2项所述之高频电浆辐射源,其中,抽取栅板(4)具有网孔,而该等网孔之宽度,比抽取栅板(4)及电浆室(3)之电浆间之空间电荷区厚度更小。一种高频电浆辐射源,其具有一为电浆设置之电浆室(3),一些用于点燃并保持电浆之电气机具(8、9),自电浆室(3)中把中性电浆辐射(I)抽取出来之抽取栅板(4),以及一出口,而抽取栅板(4)则被设置于出口之范围内,其特征为,为达到形成分散之中性电浆辐射(I),抽取栅板(4)具有网孔,而该网孔之宽度,至少与抽取栅板(4)以及电浆室(3)之电浆间之空间电荷区厚度一样大。根据申请专利范围第9项所述之高频电浆辐射源,其中,抽取栅板(4)具有网孔,而该等网孔之宽度大小之上限,基本上必须让电浆仍然留在电浆室(3)内。根据申请专利范围第9项或第10项所述之高频电浆辐射源,其中,至少有一遮板被施加一电位,以便能够将中性电浆辐射(I)加以调变。根据申请专利范围第9项或第10项所述之高频电浆辐射源,其中,在镀膜室(7)里面,于基本上与出口相对之处,设置一弯曲之表面,含有基板(10.1、10.2、10.3、10.4、10.5、10.6)。根据申请专利范围第9项或第10项所述之高频电浆辐射源,其中,除高频电浆辐射源(1)之外,亦设置一蒸镀源。根据申请专利范围第9项或第10项所述之高频电浆辐射源,其中,抽取栅板(4)是由钨丝网络所构成,金属丝之粗细为0.02至3mm。根据申请专利范围第9项或第10项所述之高频电浆辐射源,其中,至少设置一磁铁(5),用于将电浆关在电浆室(3)之范围内。一种真空室,其具有一外壳(2)、一高频电浆辐射源、以及一用于进行照射之表面,其特征为,该高频电浆辐射源(1)系根据前述申请专利范围第1项至第15项中任一项形成。根据申请专利范围第16项所述之真空室,其中,用来进行照射之表面系呈弯曲状,且包含一或多个基板(10.1、10.2、10.3、10.4、10.5、10.6)。一种利用一高频电浆辐射源之电浆辐射做为一表面照射之方法,其特征为,采用一种发散之电浆辐射(I),而高频电浆辐射源则是根据申请专利范围第1项至第15项中任一项所制成。根据申请专利范围第18项所述之方法,其中,电浆辐射(I)具有一个发散性量度之辐射特性,而此处之n则是一个余弦分布函数之指数。根据申请专利范围第18项或第19项所述之方法,其中,电浆辐射(I)之辐射特性,系经由电浆及抽取栅板(4)之间一精准之交互作用来达成之。根据申请专利范围第18项或第19项所述之方法,其中,电浆辐射(I)之辐射特性,至少必须与一部分之辐射表面相吻合,以便至少在一部分之表面上,能够使电浆辐射密度达到一很高之均匀度。根据申请专利范围第18项或第19项所述之方法,其中,设置有一弯曲之表面。根据申请专利范围第18项或第19项所述之方法,其中,藉由表面之照射可达成表面之镀膜。根据申请专利范围第18项或第19项所述之方法,其中,藉由表面之照射可达成表面之改善。一种高频电浆辐射源,其具有一为电浆设置之电浆室(3),一些用于点燃并保持电浆之电气机具(8、9),自电浆室(3)中把中性电浆辐射(I)抽取出来之抽取栅板(4),以及一出口,而抽取栅板(4)则被设置于出口之范围内,其特征为,为达到形成分散之中性电浆辐射(I),由电浆室(3)看去之抽取栅板(4)系形成凸起之构造及/或抽取栅板(4)网孔之宽度,比抽取栅板(4)以及电浆室(3)之电浆间之空间电荷区厚度一样大。一种高频电浆辐射源之电浆辐射喷镀表面之方法,其具有一为电浆设置之电浆室(3),一些用于点燃并保持电浆之电气机具(8、9),自电浆室(3)中把中性电浆辐射(I)抽取出来之抽取栅板(4),以及一出口,而抽取栅板(4)则被设置于出口之范围内,其特征为,为达到形成分散之中性电浆辐射(I),以抽出中性电浆辐射(I),由电浆室(3)看去之抽取栅板(4)系形成凸起之构造及/或具有如下网孔宽度之抽取栅板(4)所述网孔宽度大于抽取栅板(4)及电浆之空间电荷区之厚度。
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