发明名称 相变记忆体装置及其制造方法
摘要 一种相变记忆体装置包括一下部电极及共用该下部电极的至少两个相变记忆体单元。另一相变记忆体装置包括一加热层,该加热层具有一与一相变材料层之较小接触区及一与一PN二极体结构之较大接触区。
申请公布号 TWI387142 申请公布日期 2013.02.21
申请号 TW097150475 申请日期 2008.12.24
申请人 海力士半导体股份有限公司 南韩 发明人 郑镇基
分类号 H01L45/00 主分类号 H01L45/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 南韩