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发明名称
半导体结构体及其制造方法
摘要
一种半导体之结构体,系以具有伍兹晶体结构之第三类金属氮化物形成,并在汽态中生长于一(0001)定向之半导体基片上。该结构体包含一底覆盖层、一顶覆盖层、及于该二覆盖层间供扩散光传播于半导体结构体内之一扩散区,该扩散区具有与二覆盖层不同之折射率,及具有于扩散区与覆盖层之间提供光扩散介面之非平坦表面。依本发明,该扩散区包括多数扩散层,该扩散层之成分及厚度业经适当选择,以避免于扩散区中因张力引起之差排,而相邻之扩散层则具有不同之折射率,俾进一步提高扩散效率。
申请公布号
TWI390724
申请公布日期
2013.03.21
申请号
TW095122874
申请日期
2006.06.26
申请人
欧普多GaN公司 芬兰
发明人
瓦笛士拉夫波库罗夫;麦西米欧诺布柳托夫
分类号
H01L29/12;H01L21/02
主分类号
H01L29/12
代理机构
代理人
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项
地址
芬兰
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