发明名称 台型半导体装置及其制造方法
摘要 本发明之课题为,在台型半导体装置及其制造方法中,既压低制造成本,且防止台型半导体装置的污染及物理性损害。于半导体基板10的表面形成N-型半导体层11,于该N-型半导体层11的上层形成P型半导体层12。于P型半导体层12上再形成与P型半导体层12连接的阳极电极14,并以包围阳极电极14之方式,从P型半导体层12的表面形成比N-型半导体层11还深的台沟26。之后,形成从台沟26内延伸至阳极电极14端部上之第二绝缘膜27。第二绝缘膜27系由聚醯亚胺系的树脂等有机绝缘物所构成。之后,沿着划痕DL切割由半导体基板10以及层叠于半导体基板10的各层所构成的层叠体。
申请公布号 TWI401807 申请公布日期 2013.07.11
申请号 TW097144815 申请日期 2008.11.20
申请人 三洋电机股份有限公司 日本;三洋半导体股份有限公司 日本;三洋半导体制造股份有限公司 日本 发明人 铃木彰;关克行;小田岛庆汰
分类号 H01L29/861;H01L21/329 主分类号 H01L29/861
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项
地址 日本