发明名称 |
台型半导体装置及其制造方法 |
摘要 |
本发明之课题为,在台型半导体装置及其制造方法中,既压低制造成本,且防止台型半导体装置的污染及物理性损害。于半导体基板10的表面形成N-型半导体层11,于该N-型半导体层11的上层形成P型半导体层12。于P型半导体层12上再形成与P型半导体层12连接的阳极电极14,并以包围阳极电极14之方式,从P型半导体层12的表面形成比N-型半导体层11还深的台沟26。之后,形成从台沟26内延伸至阳极电极14端部上之第二绝缘膜27。第二绝缘膜27系由聚醯亚胺系的树脂等有机绝缘物所构成。之后,沿着划痕DL切割由半导体基板10以及层叠于半导体基板10的各层所构成的层叠体。 |
申请公布号 |
TWI401807 |
申请公布日期 |
2013.07.11 |
申请号 |
TW097144815 |
申请日期 |
2008.11.20 |
申请人 |
三洋电机股份有限公司 日本;三洋半导体股份有限公司 日本;三洋半导体制造股份有限公司 日本 |
发明人 |
铃木彰;关克行;小田岛庆汰 |
分类号 |
H01L29/861;H01L21/329 |
主分类号 |
H01L29/861 |
代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |