| 摘要 |
本发明系关于一种用于半导体装置之化学机械抛光中的抛光衬垫(40、42)及平台(50)总成，其所包括之平台(50)具有一带有一或多个排放过道(例如64、66)的通风终端窗(62、72、82)及/或有槽或有通道的平台表面(176)以藉由经由一或多个排放路径(52)排出或排放空气来防止气压累积于气隙(46)中，该或该等排放路径形成于该平台中以提供一至周围或次周围环境的路径。通风终端窗(72)之透气构造向衬垫终端窗(44)与通风终端窗(72)之间的气隙(46)提供释压功能，然而亦可包括用透气疏水材料装填的通路(75、76)，该透气疏水材料在清洗平台终端窗(72)期间保护下伏终端侦测系统(30、32)免受污染。 |
