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经营范围
发明名称
曝光装置、曝光方法及元件制造方法
摘要
曝光装置EX,透过从液体供应机构10所供应之液体LQ与投影光学系统PL,将曝光用光EL照射于基板P上以将基板P曝光。其具备压力调整机构90,供调整从液体供应机构10所供应之液体LQ之压力。藉此,可良好地形成液浸区域,而能获得高曝光精度及测量精度。
申请公布号
TWI403853
申请公布日期
2013.08.01
申请号
TW094100209
申请日期
2005.01.05
申请人
尼康股份有限公司 日本
发明人
长坂博之
分类号
G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址
日本
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