发明名称 正型光阻组成物及使用它之图案形成方法
摘要 本发明揭示一种正型光阻阻成物,其包括:(A)可因酸之作用增加其在硷显影剂中溶解度且不含矽原子之树脂;(B)在以光化射线或放射线照射时可产生酸之化合物;(C)具有至少一种选自(X)至(Z)之基的含矽原子树脂,(X)硷溶性基,(Y)可因硷显影剂之作用分解而增加树脂(C)在硷显影剂中溶解度之基,(Z)可因酸之作用分解而增加树脂(C)在硷显影剂中溶解度之基;及(D)溶剂。
申请公布号 TWI403843 申请公布日期 2013.08.01
申请号 TW095133619 申请日期 2006.09.12
申请人 富士软片股份有限公司 日本 发明人 神田博美;汉那慎一;稻部阳树
分类号 G03F7/039;G03F7/075;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 日本