微影装置及器件制造方法

摘要

本发明揭示在一基板被曝光前执行使用偏移校正及制程校正来校正该基板之未对准，该等偏移校正及制程校正系基于对准标示之对准偏移测量，及先前批次中之基板上的重叠目标之重叠测量来计算。